莉莉说育儿|ASML是如何突破EUV光源功率瓶颈的？ ASML的高功率EUV光源研发团队的

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ASML的高功率EUV光源研发团队的三位工程师Danny Brown、Alex Schafgans 和 Yezheng Tao最近（9月24日）获得了今年的Berthold Leibinger 创新奖。

Berthold Leibinger创新奖是由德国通快Trumpf前董事长莱宾格先生创立的，有激光界的“诺奖”之称。

Danny（图2右）是这个三人工程师团队的领导， Alex是一位在ASML工作15年的美国博士，而Yezheng是一位在ASML工作18年的华裔博士。

曾经一度， EUV计划似乎陷入了僵局：这个团队竭尽全力试图将EUV光源的功率提高到200W以上，但似乎一直无法超过80W 。

于是他们回到最初的物理，在种子激光隔离模块上收集新数据，研究正确的道路。这项工作使他们能够将EUV功率提高30-40% ，一夜之间达到了160W 。很快，团队在系统增加了预脉冲后，功率从160W增加到200W （图3：ASML工厂正待组装的LPP光源）。

Alex对Yezheng的评价也是很高的:
“他发现了制造激光等离子体的全新方法，将他的知识运用到远远超出普通人直觉参数的地方。他的贡献在达到 EUV 道路上的关键里程碑方面是无价的，他继续为此增加价值日。 ”

我最近介绍过一些俄罗斯的EUV光源研究，非常丰富，包括液体Li靶LPP、转靶LPP、各种激发源的DPP 。我想，从ASML的EUV光源成功来看，这些研究从来都不是一帆风顺的，也都是十年如一日的攻关、突破瓶颈、突破看似不可能的物理极限来实现的。

【莉莉说育儿|ASML是如何突破EUV光源功率瓶颈的？】

我常常会聊一些光刻机关键技术节点突破的故事，并不是宣扬这些技术多复杂、多难做，而是强调人才队伍的培养、尊重科技发展规律的重要性！而这两点是中国科技发展面临的巨大问题。

很多人有种想法：中国有钱，要多挖人。

的确，挖人、挖高科技人才，对国家的短期发展是有重大的贡献的。不过，我想说，挖人永远是支撑和辅助，而建立自己的健全的人才培养体制、人才激励机制、人才发展环境，才是根本：

1 ，缺失人才发展环境，我们就会出现“橘在淮南淮北”的困境；

这个星期我介绍了很多ASML（Cymer）的人才，我们为何看到在ASML ，俄罗斯籍、乌克兰籍、华裔、美籍科技人员都能都得到良好的发展环境，并且他们通常会一个公司的一项产品服务20年？

2 ，人才政策的核心是聚焦本土科研人才和队伍的培养、聚焦打造中国独立的科研原创体系和科技转化体系，而以引进人才为辅。我最近在调研一些项目时，发现中国人才流失的状况及其严重，之后会多做报道。