欣儿妈的育儿日记|80年代，我国光刻机技术曾领先全球，现如今为何我国会落于人后？中国一直被外界所称之为“基

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中国一直被外界所称之为“基建狂魔” ，更是全球制造业当之无愧的第一，但是在个别领域也是仍存在短板，例如光刻机领域。
但是你们知道吗？现如今因为光刻机被“卡脖子”的我们，早在上世纪八十年代就已经成功研发光刻机，你又能否相信现如今的“光刻机巨头”ASML在当时还是寂寂无名，那么究竟为何我们会被赶超甚至拉开距离呢？
今天，我们就来聊聊这个光刻机究竟有多难造，也看看为何我国光刻机曾领先全球，如今却要受到ASML的掣肘。
【被人们遗忘的历史】许多人可能会认为荷兰ASML在光刻机领域一直保持着领先地位，起初007也是这么认为的，但是我深入挖掘了我国半导体产业发展史后惊人的发现：并不是这样的！
其实我国早在上个世纪就已经成功研究出光刻机！

早在20世纪70年代，光刻机就被国际“巴黎统筹委员会”列为全球尖端技术产品，并且因为某协定对我国实行封锁技术等政策，而当时我国没有丝毫能够获得光刻机资料的途径，就在这样艰苦的情况下，我国派出了精密仪器专家徐端颐组建技术人员投入研究光刻机。

哪怕并没有专业人员的指导，更没有奖金政策的鼓励，徐端颐仍带着团队废寝忘食地研究，从氦-氖气体激光器开始，一步步实现光刻机零件的突破，一年后，我国第一台“光刻机和分步重复照相机”问世，并且投入使用。
根据一开始的经验，徐端颐在几年后又投身于“自动对准分步投影光刻机”的研发，并且在五年后研制成功，填补了我国在该领域技术层面上的空白，要知道，当时我国的技术水平，也只有现如今的美国和日本才能够与之匹配。
随后，徐端颐一鼓作气又带领着团队投入了“分布投影光刻机” ，而这该光刻机的研究是处于当时国际的最高水平，在机器成功问世后，清华大学也凭借这个成为了当时我国唯一一个能够自主研发并且生产高端光刻机的单位，反观现如今的“光刻机巨头”ASML公司，在当时却却还只是一家寂寂无名的小公司
由此可见，虽然我国当时的条件艰苦，但是在光刻机研发领域绝对是“一览众山小”般的存在，理论来说应该是愈发强大，但是如今为何却落后于人呢？
【西方国家的献媚】在我国新型光刻机研发取得成功后，我国在首都北京开展了首届“全国工业展览会” ，并且邀请了许多外国专家前来参展，而在这批专家当中，有绝大部分是美国与日本的光刻机专家。
而当时我国的研发人员本着“共同进步”的想法，并且因为对于“知识产权”概念的欠缺，对于国外专家的一切问题进行解答，可谁曾想随后国外专家所做出的事情令人做呕。
美国和日本专家回国后，国际“巴黎统筹委员会”当即宣布取消了对我国实行的投影光刻机的禁运令，有些人可能会认为这是好事，其实这只是一个阳谋罢了。